질화갈륨(GaN) 대신 요오드화 구리(CuI) 사용, 고효율 청색광 반도체 개발

▲ 요오드화 구리(CuI) 화합물반도체를 소재로 사용하여 고효율로 청색광을 발광하는 소자의 모습 [사진=KIST]
[IT비즈뉴스 최태우 기자] 한국과학기술연구원(KIST) 차세대반도체연구소 송진동 책임연구원, 장준연 소장팀이 페타룩스 안도열 대표(서울시립대학교 석좌교수)와의 공동연구를 통해 기존의 청색광 LED 반도체에 사용했던 질화갈륨(갈륨나이트라이드, GaN)을 대체 할 수 있는 새로운 화합물 반도체 기술개발에 성공했다.

청색광 LED는 1990년대 일본의 과학자들에 의해 질화갈륨(GaN)을 고품질로 만드는 기법을 개발·상용화에 성공했다.

LED는 물론 스마트폰, 디스플레이, 전자제품 및 고주파장치에 핵심소재로 사용되는 질화갈륨은 실생활에 널리 쓰이고 있다. 초고속 통신용소자, 자동차용 전력반도체, 극한 환경용 반도체로 활용 범위가 커지고 있다.

KIST·페타룩스 공동연구진은 구리(Cu)와 요오드(I)를 합성한 요오드화 구리(CuI) 1-7족 화합물 반도체를 소재로 사용해 고효율로 청색광을 발광하는 소자 기술을 세계최초로 개발했다.

원소주기율표에 1-7족 물질들은 강한 전기적 상호작용으로 인해 원자간 결합강도가 높아 반도체로 사용하기 어려웠다.

연구진이 개발한 요오드화 구리(CuI) 반도체는 저렴한 실리콘(Si) 기판에 적은 결함으로 성장이 가능해 현재 상용화된 대면적 실리콘 기판(300mm)을 그대로 사용할 수 있다는 장점이 있다.

또 요오드화 구리(CuI) 박막 성장온도가 실리콘 기반 CMOS소자 공정에 사용되는 온도(300도 이하)와 유사해 열화없이 요오드화 구리(CuI) 박막을 증착할 수 있어 저렴하고 손쉬운 실리콘 반도체 공정에 적용이 가능하다.

공동연구진은 요오드화 구리(CuI) 반도체가 질화갈륨 기반 소자에 비해 10배 이상 강한 청색광 밝기 및 향상된 광전효율 특성과 장기적 소자 안정성을 가진다는 것을 확인했다.

이번 연구결과는 고품질 구리할로겐계 단결정 요오드화 구리(CuI)를 실리콘 기판 상에 성장, 고효율의 청색 발광을 구현해 세계 최초로 구리할로겐계 화합물을 이용한 새로운 반도체 소재 기술을 실증했다는 것에 의미가 있다.

KIST 송진동 단장은 “기존의 p-형 질화갈륨을 대체하여 높은 생산효율의 청색 발광에 성공했다. 성능개선 연구를 지속적으로 수행할 것”라고 말했다. KIST 장준연 소장은 “기존의 LED에 비해 많은 장점을 가지므로 일본이 독점하고 있는 질화갈륨을 대체하는 새로운 발광반도체용 소재”라고 밝혔다.

페타룩스 안도열 대표는 “2016년 구리할로겐계 반도체의 우수성에 대한 이론적 예측을 최초로 보고하고 원천기술을 보유하고 있다. 이번 연구성과가 새로운 청색 및 자외선 광원으로 상업적 생산이 가능할 것으로 기대한다”고 말했다.

이번 연구는 과학기술정보통신부 지원으로 KIST 주요사업인 차세대반도체연구소 플래그십 과제로 진행됐다. 페타룩스는 연구개발비를 투자, 공동연구를 수행했다. 연구결과는 네이처 자매지인 ‘Scientific Reports’ 최신호에 온라인 게재됐다.

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