디자인제도 선진 5개청(ID5), 12일 연례회의서 발전방향 모색

최태우 기자 / 기사승인 : 2019-12-11 14:00:07
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▲ 지난해 11월 서울에서 열린 ID5 연례회의 현장 [사진=특허청]

[IT비즈뉴스 최태우 기자] 세계 5대 특허청의 디자인 분야 협의체(Industiral Design 5 Forum, ID5)가 글로벌 디자인 제도 조화를 위한 협력 방향을 설정하는 새로운 비전을 채택한다.


2015년 공식 출범한 ID5는 전세계 디자인출원의 70%이상을 차지하는 한국과 미국, 중국, 일본 및 유럽5개국 지식재산청 간 디자인분야 협의체다.

12일 일본에서 개최되는 ID5 연례회의에서 특허청을 비롯한 ID5 소속 5개청은 효율적이고 사용자 친화적인 글로벌 디자인 제도를 마련을 목적으로 협력에 합의하는 공동선언문을 발표한다.

연례회의에서는 각국의 디자인 출원 절차를 통일해 해외 출원의 편의를 도모할 수 있는 디자인 실무 권장안을 마련할 예정이다. 또 인터넷 참증 인용에 관한 심사 관행과 절차에 관한 연구, 각 청의 품질 업무의 공유, 3D프린팅과 디자인 보호 등 현행 추진 프로젝트의 협력 강화를 위해 논의한다.

13일에는 사용자 세션도 개최한다. ID5에서의 그간의 협력 결과를 사용자에게 공개하고 발전방향에 대한 사용자 의견도 수렴할 전망이다. 세션에는 우리나라에서 한국지식재산협회가 사용자 단체로 참여해 글로벌 디자인제도 발전방향에 관한 우리나라 사용자 의견을 제안할 예정이다.

수석대표로 이번 회의에 참석하는 문삼섭 상표디자인심사국장은 “ID5 체제가 출범한 이래 지난 5년 동안은 협의체 상호간의 이해를 넓히는 데 중점을 뒀다면 앞으로의 협력은 공통의 디자인 규범 형성을 위한 보다 적극적인 상호 협력이 필요할 것으로 본다”고 말했다.

 

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