EV그룹(EVG)이 반도체 웨이퍼 프로브 카드 선도기업인 피엠티(PROTEC MEMS Technology)로부터 자사의 마스크리스 노광 시스템에 대한 공급계약을 수주했다고 밝혔다. 

이번 계약으로 EVG의 LITHOSCALE 시스템은 충남 아산시 소재 피엠티 본사에 설치돼 첨단 낸드플래시와 D램, 고대역폭 메모리(HBM) 디바이스의 웨이퍼 레벨 테스트용 차세대 MEMS 기반 프로브 카드 제조에 사용될 예정이다.

EVG의 MLE(Maskless Exposure) 기술을 적용한 LITHOSCALE은 높은 수준의 유연성이나 제품 다양성을 필요로 하는 시장 및 애플리케이션의 리소그래피 요구를 충족하도록 설계된 점이 특징이다.

LITHOSCALE은 실시간 데이터 전송과 즉각적인 노광을 가능하게 하는 강력한 디지털 프로세싱 능력과 높은 구조적 분해능 및 생산 처리량 확장성을 결합해 기존 리소그래피 방식의 병목 문제를 해결한다는 게 EVG의 설명이다. 신속한 프로토타입 개발에 이상적인 솔루션으로 턴어라운드 시간과 연구개발 주기도 앞당길 수 있다.

MEMS 제조는 특히 미세공정의 복잡성으로 인해 공정 난이도가 높다. 그 결과 마스크 제조비용 증가를 피할 수 없는 한계가 있다. 마스크를 사용하지 않는 LITHOSCALE은 높은 초점 심도와 고분해능의 성능을 보장해 마스크를 사용하지 않고도 미세 피치 프로브 카드의 핵심 기술인 고밀도 재배선 레이어(RDL)와 비아(Via) 연결이 가능하다고 EVG는 설명했다.

피엠티 조용호 대표이사는 “미세 피치 프로브 카드는 반복적인 리소그래피 패터닝 공정을 통해 제작되어 제조 비용 증가 최소화가 필요하다”며, “기존의 마스크 얼라이너를 이용한 리소그래피 공정을 EVG의 LITHOSCALE로 대체함으로써 제조 비용 절감과 공정 개발 속도를 높이고, 프로세스 성능도 향상할 수 있을 것으로 기대한다”고 말했다.

EVG 한국지사 윤영식 지사장은 “피엠티가 자사 제품 포트폴리오를 확장하고 개발 시간을 단축할 수 있도록 돕게 돼 기쁘다”며 “LITHOSCALE은 높은 분해능, 다양한 많은 제품 설계를 처리할 수 있는 뛰어난 유연성, 낮은 소유 비용 특성을 결합한 독창적인 솔루션으로서 미세 피치 웨이퍼 프로브 카드 제조용으로 매우 이상적”이라고 말했다.