ACM리서치가 자사의 싱글 웨이퍼 고온 과산화황 혼합물(SPM) 장비가 중국의 주요 비메모리 반도체 제조회사로부터 품질 평가를 받았다고 발표했다. 

현재 13개 고객사에 납품된 이 시스템은 ACM 고유의 노즐 설계가 특징으로, SPM 공정 중에 황산 분진(acid mist)의 비산을 방지함으로써 입자 성능을 개선하고 챔버 예방정비 세정 빈도를 줄이며 시스템 가동 시간을 향상시킨다고 사측은 설명했다. 

이 장비는 28나노(nm) 이하의 기술 노드에서 전공정과 후공정 모두에 대한 습식 식각 및 웨이퍼 세정을 지원한다.

ACM의 싱글 웨이퍼 중온/고온 SPM 장비는 섭씨 90도의 중저온 황산 세정, 170도의 고온 황산 포토레지스트 박리, 190도의 초고온 황산 금속 리프트오프 등 다양한 프런트엔드 및 백엔드 습식 식각 및 세정 공정에 최적화됐다.

반도체 공정 노드가 발전함에 따라 싱글 웨이퍼 고온 황산 처리에 대한 수요가 크게 증가하고 있다. 이러한 추세로 인해 입자 제어, 챔버 환경 관리 및 황산 온도 안정성에 대한 요구 사항도 더 엄격해지고 있다. 

ACM은 싱글 웨이퍼 중온/고온 SPM 장비에 최고 혼합 온도가 230도를 넘지 않고 안정적으로 제어되는 다단계 가열 방식과 고온 SPM이 챔버 외부로 튀는 것을 방지하는 SPM 노즐 설계로 26나 노드에서 평균 입자 수가 10개 미만인 우수한 입자 제어 성능을 달성한 혁신적인 설계를 도입해 업계 요구에 대응하고 있다고 설명했다.

데이비드 왕 ACM리서치 CEO는 “싱글 웨이퍼 중온/고온 SPM 장비는 300mm 웨이퍼 반도체 양산 제조에서 고객의 과제를 해결하기 위한 ACM의 혁신 노력을 잘 보여준다”며 “중온/고온 SPM은 특히 차세대 반도체 디바이스 제조에서 핵심적인 역할을 하는 고온 SPM을 통해 웨이퍼 세정 장비 시장에서 점점 비중을 높여가고 있다”고 말했다.